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時価総額
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権利確定日
米国内外の半導体その他ハイテク産業向けに、先進材料とプロセスソリューションを提供する。化学蒸着と原子層堆積材料、化学機械平坦化スラリーとパッド、イオン注入特殊ガス、洗浄材料、その他特殊材料を提供するほか、ウェーハやその他基板の清浄度を確保するろ過・精製・汚染制御ソリューションを提供。デラウェア州籍
| 決算期 | 売上 | 営利 | 経利 | 最終益 | 一株益 |
|---|---|---|---|---|---|
| 2021.12 | 2,299 | 552 | 479 | 409 | 3.00 |
| 2022.12 | 3,282 | 480 | 247 | 209 | 1.46 |
| 2023.12 | 3,524 | 499 | 173 | 181 | 1.20 |
| 2024.12 | 3,241 | 534 | 322 | 293 | 1.93 |
| 前期比 | -8.02% | +6.96% | +86.51% | +62.06% | +60.83% |
売上高
営業利益
経常利益
純利益
売上高
営業利益
経常利益
純利益
米国内外の半導体その他ハイテク産業向けに、先進材料とプロセスソリューションを提供する。化学蒸着と原子層堆積材料、化学機械平坦化スラリーとパッド、イオン注入特殊ガス、洗浄材料、その他特殊材料を提供するほか、ウェーハやその他基板の清浄度を確保するろ過・精製・汚染制御ソリューションを提供。デラウェア州籍
売上高
営業利益
経常利益
純利益
売上高
営業利益
経常利益
純利益
| 決算期 | 売上 | 営利 | 経利 | 最終益 | 一株益 |
|---|---|---|---|---|---|
| 2021.12 | 2,299 | 552 | 479 | 409 | 3.00 |
| 2022.12 | 3,282 | 480 | 247 | 209 | 1.46 |
| 2023.12 | 3,524 | 499 | 173 | 181 | 1.20 |
| 2024.12 | 3,241 | 534 | 322 | 293 | 1.93 |
| 前期比 | -8.02% | +6.96% | +86.51% | +62.06% | +60.83% |